真空鍍膜設備是現在市場(chǎng)廣泛用于高端產(chǎn)品如手機，鐘表等。

真空鍍膜設備的冷卻主要分為兩部分，1、靶材冷卻。2、腔體冷卻

靶材冷卻：在鍍膜過(guò)程中靶材的頻率高，電流大，電流在流動(dòng)過(guò)程中會(huì )產(chǎn)生集膚效應，電流會(huì )集中在有點(diǎn)導體的面，導致電導體發(fā)熱，為了保證鍍膜機的長(cháng)時(shí)間連續性工作所以需要在導體內部通冷卻水，給其降溫。

腔體冷卻：鍍膜腔體內的溫度通?？梢愿哌_800-1200攝氏度，長(cháng)時(shí)間工作會(huì )導致腔體高溫，故需要在腔體表面做夾層通冷卻水來(lái)進(jìn)行降溫。

在真空鍍膜機冷水機選型過(guò)程需要注意：

1、鍍膜機的功率。

2、冷卻水流量。

3、鍍膜機的腔體直徑。